[实用新型]双光学头激光并行加工的光刻系统有效
| 申请号： | 200920235369.5 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN201516538U | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 邵其文;陈林森;许家明 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215026 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双光学头激光并行加工的光刻系统，包括工作平台、光学平台和光学平台驱动装置，其特征在于：所述光学平台驱动装置主要由平行设置于工作平台上方的横梁，位于横梁两端的一对Y方向直线导轨、驱动横梁沿Y方向直线导轨运动的直线电机，位于横梁上的X方向直线导轨、驱动光学平台沿X方向直线导轨运动的直线电机构成；设有两个独立的光学平台，每一光学平台上固定有一组激光光源和光学头。本实用新型能够快速、有效地实现大幅面的激光光刻。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 激光 并行 加工 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种双光学头激光并行加工的光刻系统，包括工作平台、光学平台和光学平台驱动装置，其特征在于：所述光学平台驱动装置主要由平行设置于工作平台上方的横梁，位于横梁两端的一对Y方向直线导轨、驱动横梁沿Y方向直线导轨运动的直线电机，位于横梁上的X方向直线导轨、驱动光学平台沿X方向直线导轨运动的直线电机构成；设有两个独立的光学平台，每一光学平台上固定有一组激光光源和光学头。
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