[实用新型]基片镀膜用处理机构

摘要

本实用新型提供了一种基片镀膜用处理机构，包括柜体、处理板及蒸发源，柜体呈中空结构，中空结构形成密封腔，蒸发源与处理板设置于密封腔内，且处理板位于蒸发源上方，其中，还包括挡板机构，挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，磁流体安装于柜体上，挡板驱动机构位于柜体外并与冷却轴的一端连接，冷却轴的另一端枢接地穿过磁流体并伸入密封腔内，挡板与冷却轴固定连接，挡板容置于密封腔内且位于蒸发源与处理板之间，挡板隔离或开通蒸发源与处理板的空间连接，挡板驱动机构驱动冷却轴，冷却轴带动挡板转动，一方面使得本实用新型能最大限度地提高了基片镀膜层的品质，另一方面能最大限度上延长了本实用新型的正常寿命。

主权项

一种基片镀膜用处理机构，包括柜体、处理板及蒸发源，所述柜体呈中空结构，所述中空结构形成密封腔，所述蒸发源与所述处理板设置于所述密封腔内，且所述处理板位于所述蒸发源上方，其特征在于：还包括挡板机构，所述挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，所述磁流体安装于所述柜体上，所述挡板驱动机构位于所述柜体外并与所述冷却轴的一端连接，所述冷却轴的另一端枢接地穿过所述磁流体并伸入所述密封腔内，所述挡板与所述冷却轴固定连接，所述挡板容置于所述密封腔内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接，所述挡板驱动机构驱动所述冷却轴，所述冷却轴带动所述挡板转动。