[实用新型]PECVD设备尾气处理装置无效
申请号: | 200920255861.9 | 申请日: | 2009-11-24 |
公开(公告)号: | CN201553779U | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | 左凯峰;翁建军;尧海;惠昨飞 | 申请(专利权)人: | 无锡尚德太阳能电力有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/34;C30B25/00;F23G7/06 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214028 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种PECVD设备尾气处理装置,包括氮气进气管、通过节流阀与所述氮气进气管相连通的应急氮气管、旁路稀释氮气管及进气管稀释氮气管。所述的旁路稀释氮气管的进气端通过第二节流阀与氮气进气管相连通,所述的进气管稀释氮气管的进气端通过第三节流阀与氮气进气管相连通。与现有技术相比,由于将旁路稀释氮气和进气管氮气分开控制,使得旁路稀释氮气和进气管氮气的每根支管的氮气流量增加,避免了尾气进气管堵塞,并且无需花费大量时间拆卸清洗更换燃烧头,提高了设备可用率,大大降低了火花塞更换次数和燃烧头烧穿次数,节约了易耗品成本。 | ||
搜索关键词: | pecvd 设备 尾气 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种PECVD设备尾气处理装置,包括氮气进气管、通过节流阀与所述氮气进气管相连通的应急氮气管、旁路稀释氮气管及进气管稀释氮气管,其特征在于:所述的旁路稀释氮气管的进气端通过第二节流阀与氮气进气管相连通,所述的进气管稀释氮气管的进气端通过第三节流阀与氮气进气管相连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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