[实用新型]三氯氢硅生产中提高反应均匀程度的流化床反应器无效
申请号: | 200920256025.2 | 申请日: | 2009-12-01 |
公开(公告)号: | CN201572633U | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 倪云达 | 申请(专利权)人: | 倪云达 |
主分类号: | B01J8/24 | 分类号: | B01J8/24;C01B33/107 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 李海燕 |
地址: | 225000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 三氯氢硅生产中提高反应均匀程度的流化床反应器,涉及一种三氯氢硅生产的大型流化床反应器。包括自上而下相互连接的气固分离段、反应段和封头段,气固分离段上部设有合成气体出口和安全释放口,反应段内设有加热装置,封头段上设有氯化氢进气口,其特征在于,所述反应段和封头段之间设有气体分布器,气体分布器上均设有气孔,各气孔上设有锥形气帽。本实用新型的三氯氢硅大型流化床反应器,在现有的流化床反应器结构上进行了大的改进,具有如下显著的效果:气体分布器的设置,使氯化氢气体均匀进入反应段内,使反应更加均匀。提高了氯化氢利用率以及硅粉的转化率。 | ||
搜索关键词: | 三氯氢硅 生产 提高 反应 均匀 程度 流化床 反应器 | ||
【主权项】:
三氯氢硅流化床反应器,包括自上而下相互连接的气固分离段、反应段和封头段,气固分离段上部设有合成气体出口和安全释放口,反应段内设有加热装置,封头段上设有氯化氢进气口,其特征在于,所述反应段和封头段之间设有气体分布器,气体分布器上均设有气孔,各气孔上设有锥形气帽。
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