[实用新型]镜头对焦模块的成像底盖结构无效

专利信息
申请号: 200920266336.7 申请日: 2009-11-10
公开(公告)号: CN201540395U 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 林文章 申请(专利权)人: 台湾东电化股份有限公司
主分类号: G02B7/09 分类号: G02B7/09;H04N5/225
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;张燕华
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开一种镜头对焦模块的成像底盖结构,配设于一镜头对焦模块及一影像感测组件之间,该底盖覆盖于该影像感测组件上,包括一成像区及一非成像区,该成像区线性对应于镜头的光线进入位置及该影像传感器的成像感测位置,且该成像区与非成像区的平面高度,形成一不同水平面的高低段差,使得落于该底盖上的灰尘,可在不规则晃动中易于集中在成像区中,让检测人员检查发现而清除,或者被阻隔于成像区外,降低成像区被污染的风险。
搜索关键词: 镜头 对焦 模块 成像 结构
【主权项】:
一种镜头对焦模块的成像底盖结构,配设于一镜头对焦模块及一影像感测组件之间,该成像底盖覆盖于该影像感测组件上,其特征在于,该成像底盖结构包括一成像区及一非成像区,该成像区线性对应于镜头的光线进入位置及该影像传感器的成像感测位置,且该成像区与非成像区的平面高度形成一不同水平面的高低段差。
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