[实用新型]一种凹面光栅装置有效

专利信息
申请号: 200920277453.3 申请日: 2009-11-25
公开(公告)号: CN201615968U 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 赵跃鹏 申请(专利权)人: 北京普析通用仪器有限责任公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G01J3/18
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 101200*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种凹面光栅装置,所述装置包括:凹面光栅(1)、氘灯(2)、钨灯(3)、光学镜面(4)和出射狭缝(5);氘灯(2)和钨灯(3)为入射光源,氘灯(2)和钨灯(3)之间通过光学镜面(4)进行切换,氘灯(2)和钨灯(3)的衍射光线均到达出射狭缝(5)处。本实用新型的凹面光栅装置在入射光线和衍射光线夹角较小的情况下,能够将不同波长的光精确聚焦到出射狭缝处,既改善了像质,又可以提高光能量的利用率。
搜索关键词: 一种 凹面 光栅 装置
【主权项】:
一种凹面光栅装置,其特征在于,所述装置包括:凹面光栅(1)、氘灯(2)、钨灯(3)、光学镜面(4)和出射狭缝(5);氘灯(2)和钨灯(3)为入射光源,氘灯(2)和钨灯(3)之间通过光学镜面(4)进行切换,氘灯(2)和钨灯(3)的衍射光线均到达出射狭缝(5)处。
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