[实用新型]N型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管无效

专利信息
申请号: 200920283463.8 申请日: 2009-12-18
公开(公告)号: CN201570501U 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 孙伟锋;杨淼;夏晓娟;钱钦松;陈越政;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 黄雪兰
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种N型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管,包括:P型衬底,在P型衬底上设有超结结构及P型体区,超结结构由连接源漏区方向相间分布的N型区和P型区构成,在P型体区上方设有N型源区、P型体接触区及栅氧化层,在超结结构的上方设有N型漏区,在超结结构上方,且位于N型漏区以外的区域设有第一型场氧化层,在栅氧化层上方设有多晶硅栅,在N型源区、P型体接触区、N型漏区、多晶硅栅和第一型场氧化层上方设有第二型场氧化层,N型源区、N型漏区、P型体接触区及多晶硅栅均接有穿通第二型场氧化层的金属引线,其特征在于在P型衬底内设有N型缓冲区,N型缓冲区位于超结结构中P型区的下方,且与超结结构中P型区底部相接。
搜索关键词: 型超结 横向 扩散 半导体 金属 氧化物 晶体管
【主权项】:
一种N型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有超结结构及P型体区(2),超结结构由连接源漏区方向相间分布的N型区(11)和P型区(12)构成,在P型体区(2)上方设有N型源区(4)、P型体接触区(5)及栅氧化层(3),在超结结构的上方设有N型漏区(14),在超结结构上方,且位于N型漏区(14)以外的区域设有第一型场氧化层(10),在栅氧化层(3)上方设有多晶硅栅(6),在N型源区(4)、P型体接触区(5)、N型漏区(14)、多晶硅栅(6)和第一型场氧化层(10)上方设有第二型场氧化层(8),N型源区(4)、N型漏区(14)、P型体接触区(5)及多晶硅栅(6)均接有穿通第二型场氧化层(8)的金属引线,其特征在于在P型衬底(1)内设有N型缓冲区(15),N型缓冲区(15)位于超结结构中P型区(12)的下方,且与超结结构中P型区(12)底部相接。
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