[实用新型]阻焊图形曝光胶片无效
| 申请号： | 200920307436.X | 申请日： | 2009-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN201527539U | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 白立江 | 申请（专利权）人： | 天津普林电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;H05K3/00 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 王来佳 |
| 地址： | 300308 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种阻焊图形曝光胶片，由制有曝光区的胶片组成，其中胶片的边缘处制有定位通孔，所述的定位通孔位于胶片的四角。本实用新型结构简单，曝光时使用黑片，只需要一名操作人员即可以完成曝光加工，而且胶片与电路板对位准确，是一种节省材料和人力资源，便于操作的阻焊图形曝光胶片。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 曝光 胶片 | ||
【主权项】：
一种阻焊图形曝光胶片，由制有曝光区的胶片组成，其特征在于：胶片的边缘处制有定位通孔。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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