[实用新型]掩模板有效
| 申请号： | 200920317147.8 | 申请日： | 2009-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN201556025U | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 车炯坤;崔成晋 | 申请（专利权）人： | 四川虹视显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所 51124 | 代理人： | 蒲敏 |
| 地址： | 611731 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种掩模板，包括石英玻璃板、设置在石英玻璃板上的镀有Cr图形的玻璃板和设置在玻璃板上的紫外光固化胶。本实用新型由于采用玻璃和石英玻璃两层结构组成的掩模板，在封装不同规格的OLED产品时，只需要更换镀有Cr图形的玻璃层，不需要打开封装腔门，从而可以防止腔体内部污染，提高良品率，减少了更换产品规格的时间，同时节省了石英玻璃材料，降低了掩模板的成本；同时由于可将小尺寸的OLED基板粘贴在玻璃板上，使得小尺寸的OLED基板通过和镀有Cr图形的玻璃板附着，来实现在大尺寸要求的设备上进行封装。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 | ||
【主权项】：
掩模板，其特征在于：包括石英玻璃板(2)、设置在石英玻璃板(2)上的镀有Cr图形的玻璃板(1)和设置在玻璃板(1)上的紫外光固化胶(3)。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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