[实用新型]一种制备硼掺杂各向同性热解炭材料的设备有效
申请号: | 200920351634.6 | 申请日: | 2009-12-31 |
公开(公告)号: | CN201567371U | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 白朔;吴峻峰;许力;成会明;徐红军;周序科;罗川;周金玉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/455 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型涉及热解炭材料领域,具体为一种制备硼掺杂各向同性热解炭材料的设备。该设备具有沉积装置以及与沉积装置连通的气体流量控制系统,所述沉积装置为锥形石墨床沉积装置,反应器下端开口处设有气体分配板,气体分配板中心设有倒锥形开口,气体分配板上端为筛网结构。本实用新型设计了沉积装置和气体流量控制系统,这一设计实现了硼在各向同性热解炭材料内的有效添加和均匀分布,为制备具有优异性能的硼掺杂各向同性热解炭材料奠定了基础。本实用新型解决了现有技术中存在的各向同性热解炭材料在抗氧化性能、耐磨性能、高温耐烧蚀性能和抗热、机械冲击性能等方面不足的问题,获得耐磨损、耐氧化、高性能的先进炭质密封材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 掺杂 各向同性 热解炭 材料 设备 | ||
【主权项】:
一种制备硼掺杂各向同性热解炭材料的设备,具有沉积装置以及与沉积装置连通的气体流量控制系统,其特征在于:所述沉积装置为锥形石墨床沉积装置,反应器下端开口处设有气体分配板,气体分配板中心设有倒锥形开口,气体分配板上端为筛网结构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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