[发明专利]化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法有效
| 申请号： | 200980000271.4 | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101679810A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 申东穆;崔银美;曹昇范;河贤哲 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吴晓萍;钟守期 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光用含水浆液组合物，该组合物可展示出对目标层的良好抛光速率，还具有较高的抛光选择性，并可保持目标层在抛光后的优良表面状态，本发明还涉及一种化学机械抛光方法。所述化学机械抛光(CMP)用含水浆液组合物包括磨料；一种氧化剂；一种络合剂；及一种聚合添加剂，该聚合添加剂包括选自下列的至少一种：聚环氧丙烷、环氧丙烷-环氧乙烷共聚物及由化学式1表示的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 含水 浆液 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光(CMP)用含水浆液组合物，其包括：磨料；一种氧化剂；一种络合剂；和一种聚合添加剂，该聚合添加剂包括选自下列的至少一种：聚环氧丙烷、环氧丙烷-环氧乙烷共聚物和以下化学式1表示的化合物：[化学式1]![]()
其中，R1～R4独立地为氢、C1～C6烷基或C2～C6烯基，R5为C1～C30烷基或烯基，并且n为一个5～500的数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学，未经株式会社LG化学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980000271.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：降低曲马多的副作用
- 下一篇：在低热质过滤器基底上的SCR
