[发明专利]密封结构有效
申请号: | 200980100022.2 | 申请日: | 2009-01-15 |
公开(公告)号: | CN101765736A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 平川裕一;上原秀和;中野隆;西本慎 | 申请(专利权)人: | 三菱重工业株式会社 |
主分类号: | F16J15/453 | 分类号: | F16J15/453;C23C4/06;F01D11/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种密封结构,能够得到厚的耐磨膜,并由此提高密封性能。本发明的密封结构(1)具备:凸片(5),其从旋转轴(3)的周面环状地突出,且沿轴线方向L至少设置一个;密封部件(9),其具有与凸片(5)相对的环状密封面(19),在密封面(19)形成有喷镀耐磨材料的耐磨层(25),其中,在密封面(19)的轴线方向L端部具有向半径方向(K)倾斜的锥部(21)。 | ||
搜索关键词: | 密封 结构 | ||
【主权项】:
一种密封结构,具备:凸片,其从旋转部件的周面环状地突出,且沿轴线方向至少设置一个;密封部件,其具有与该凸片相对的环状密封面,在该密封面形成有喷镀耐磨材料的耐磨膜,其中,在所述密封面的轴线方向端部具有向半径方向倾斜的倾斜部。
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