[发明专利]薄膜叠层体的制造装置和方法有效
申请号: | 200980100302.3 | 申请日: | 2009-03-02 |
公开(公告)号: | CN101796216A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 横山胜治 | 申请(专利权)人: | 富士电机系统株式会社 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;B65H5/06;H01L21/677;H01L31/04 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供薄膜叠层体的制造装置和方法。其即使在使带状挠性基板的宽度方向朝向铅垂方向的同时,将基板在水平方向上搬送较长的距离,也能够高精度地维持基板的铅垂方向上的位置。当在带状挠性基板(1)的表面叠层多层薄膜而制造薄膜叠层体时,将配置在多个成膜室之间的间隔中的至少一个间隔内、夹着基板的铅垂方向上侧的端部的至少一对夹持辊(52U)设置为,该夹持辊的旋转方向相对于基板(1)的搬送方向成角度(θU)地向上方倾斜,通过使该夹持辊(52U)夹着基板(1)的力变化,能够在基板(1)产生上升的力(Fx),从而控制基板(1)的高度。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 叠层体 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜叠层体的制造装置,其是在带状挠性基板的表面叠层多层薄膜而制造薄膜叠层体的装置,该薄膜叠层体的制造装置的特征在于,包括:基板搬送机构,其使所述基板的宽度方向为铅垂方向,并在水平方向上搬送所述基板;多个成膜室,其沿着所述基板的搬送方向连续地排列,在所述基板的表面进行成膜;至少一对夹持辊,其配置在所述多个成膜室之间的间隔中的至少一个间隔内,夹着所述基板的铅垂方向上侧的端部,该夹持辊的旋转方向被设置为相对于所述基板的搬送方向朝上方倾斜;和控制机构,其通过使所述至少一对夹持辊夹着所述基板的力发生变化来控制所述基板的高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机系统株式会社,未经富士电机系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980100302.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的