[发明专利]光响应性气体发生材料、微泵及微流体设备有效
申请号: | 200980100848.9 | 申请日: | 2009-03-11 |
公开(公告)号: | CN101978173A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 福冈正辉;山本一喜;赤木良教;福井弘司 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | F04F1/18 | 分类号: | F04F1/18;B01J7/00;B01J19/00;B81B1/00;F04B9/00;F04F1/06;G01N37/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张平元;张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种光响应性气体发生材料、以及使用了该光响应性气体发生材料的微泵,其中,所述光响应性气体发生材料被用于形成有微细流路的微流体设备中的微泵,该光响应性气体发生材料在受到光照时可有效产生气体、搬运微流体,并且能够提高送液效率。为此,本发明涉及一种包含光产酸剂和酸刺激产气剂的光响应性气体发生材料(13)、以及内部收纳有该光响应性气体发生材料(13)的微泵(10),其中,所述光响应性气体发生材料(13)是用于微流体设备中的微泵的的气体发生剂,所述微流体设备是在基板内形成有微细流路的微流体设备。 | ||
搜索关键词: | 响应 性气 发生 材料 流体 设备 | ||
【主权项】:
一种光响应性气体发生材料,其被用于微流体设备中的微泵,所述微流体设备是在基板内形成有微细流路的微流体设备,其中,所述光响应性气体发生材料中含有光产酸剂和酸刺激产气剂。
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