[发明专利]高纯氧化铈粉制备方法及包含其的CMP研磨浆无效
申请号: | 200980101122.7 | 申请日: | 2009-03-18 |
公开(公告)号: | CN101873999A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 李承周 | 申请(专利权)人: | 纽维尔 |
主分类号: | C01F17/00 | 分类号: | C01F17/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 谢顺星 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种形成高纯化中间体硝酸铈氢氧化物(Ce(NO3)3·6H2O)而制造氧化铈(CeO2)的方法,具体涉及一种在氯化铈组合物上滴定氢氧化钠后分为上清液(supernatant)与沉淀物(sediment),并回收上述沉淀物(sediment);为减少上述包含在沉淀物里的镨,微细喷射大量的净化水后通过过滤获得固体铈前驱体;使用上述通过在铈前驱体上滴定硝酸形成的硝酸铈氢氧化物制备氧化铈,并将通过滴定氢氧化钠净化及通过微细喷射大量净化水水洗形成的高纯硝酸铈氢氧化物作为中间体完成制备,因此不含各种稀土元素杂质,尤其是不含对CMP研磨浆物理特性有严重不良影响的镨的高纯氧化铈粉制备方法及包含其的CMP研磨浆。 | ||
搜索关键词: | 高纯 氧化 制备 方法 包含 cmp 研磨 | ||
【主权项】:
一种高纯氧化铈粉的制备方法,其特征在于,包括:滴定氢氧化钠直至氯化铈组合物达到pH9~10,分别过滤成第一次上清液和第一次沉淀物,并回收上述第一次沉淀物的第一次净化步骤;滴定氢氧化钠直至上述第一次沉淀物达到pH10~11,分别过滤成第二次上清液和第二次沉淀物,并回收上述第二次沉淀物的第二次净化步骤;为减少上述第二次沉淀物中含有的镨,微细喷射净化水,并进行过滤,获得Pr含量不足100ppm的固体铈前驱体的水洗步骤;在上述铈前驱体中滴定硝酸并形成硝酸铈氢氧化物(Ce(NO3)3·6H2O)的步骤;混合上述硝酸铈氢氧化物和碳酸前驱体水溶液,并进行沉淀反应,分别过滤成第三次上清液和第三次沉淀物,并回收上述第三次沉淀物的步骤;将上述第三次沉淀物以900~1000℃的温度烧制并进行粉碎,形成镨的含量不足100ppm的氧化铈粉的步骤。
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