[发明专利]带有暴露式排放通道的喷嘴有效

专利信息
申请号: 200980101202.2 申请日: 2009-06-25
公开(公告)号: CN101878677A 公开(公告)日: 2010-11-03
发明(设计)人: S·M·利伯德;B·J·柯里尔 申请(专利权)人: 海别得公司
主分类号: H05H1/28 分类号: H05H1/28;H05H1/34
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 浦易文
地址: 美国新罕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于等离子弧焊炬的喷嘴,可包括主体,该主体具有内表面、外表面、近端和在远端上的出口孔。所述喷嘴还可包括被所述主体的所述内表面环绕的衬垫。所述衬垫可包括:近端和在与所述主体的所述出口孔相邻的远端上的出口孔。喷嘴可包括形成于所述主体中的至少一个排放通道。所述排放通道可包括:入口,该入口形成于所述主体的所述内表面中;以及出口,该出口形成于所述主体的所述外表面中。所述排放通道可设置在所述主体的所述近端和所述衬垫的所述近端之间。所述等离子弧焊炬可包括一结构,该结构允许提高用于排放式强电流等离子过程中的电极寿命和喷嘴寿命。
搜索关键词: 带有 暴露 排放 通道 喷嘴
【主权项】:
一种用于等离子焊炬的喷嘴,包括:主体,该主体具有内表面、外表面、近端和在远端上的出口孔;衬垫,该衬垫被所述主体的所述内表面围绕,该衬垫包括近端和出口孔,该出口孔在与所述主体的所述出口孔相邻的远端上;以及至少一个排放通道,所述至少一个排放通道形成于所述主体中,具有形成于所述主体的所述内表面中的入口和形成于所述主体的所述外表面中的出口,所述至少一个排放通道设置在所述主体的所述近端与所述衬垫的所述近端之间。
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