[发明专利]用以在处理腔室内支撑、定位及旋转基板的设备与方法

摘要

本发明的实施例涵盖处理期间用来支撑、定位及旋转基板的方法、设备和系统。本发明的实施例还包括控制处理腔室内基板与基板支撑件间的传热的方法。在一或多个处理步骤期间，例如快速热处理(RTP)工艺、化学汽相沉积(CVD)工艺、物理汽相沉积(PVD)工艺、原子层沉积(ALD)工艺、干法蚀刻工艺、湿式清洁工艺及/或激光退火处理，所述设备和方法不需复杂、昂贵又常不可靠的组件来正确定位及旋转基板。

主权项

一种处理腔室，其至少包含：基板支撑件，包含复数个具一或多个孔的端口，各自接收来自一或多个流量控制器的流体流，其中各个该些端口适以引导接收的该流体朝主流方向，且该主流方向与其他该些端口的主流方向不同；传感器，设置来监视放在该基板支撑件上的基板的位置，该基板支撑件位于该处理腔室的处理区中；以及控制器，用以接收来自该传感器的信号，并适以通过控制来自该一或多个流量控制器并由各个该些端口输送的流体流来控制该基板的位置。