[发明专利]化妆方法、化妆模拟装置、以及化妆模拟程序无效
| 申请号： | 200980102863.7 | 申请日： | 2009-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101925345A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 镰田由美子;砂川惠子;向井志臣;高野路丽子;后藤康男;田颜清馨 | 申请（专利权）人： | 株式会社资生堂 |
| 主分类号： | A61K8/00 | 分类号： | A61K8/00;A61Q1/00;A61Q1/04;A61Q1/10;G06T1/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种化妆方法，其用于对化妆对象者的侧面脸进行化妆，所述化妆方法的特征在于，具有：侧面脸特定部位提取步骤，从所述化妆对象者的平面上所显示的侧面脸中提取出所述侧面脸的特定部位；化妆区域提取步骤，根据由所述侧面脸特定部位提取步骤所得到的多个侧面脸特定部位，提取出对所述化妆对象者进行化妆的化妆区域；化妆步骤，对与所述化妆区域提取步骤所提取的化妆区域相对应的所述化妆对象者的脸上的区域进行化妆。 | ||
| 搜索关键词： | 化妆 方法 模拟 装置 以及 程序 | ||
【主权项】：
一种化妆方法，其用于对化妆对象者的侧面脸进行化妆，所述化妆方法的特征在于，具有：侧面脸特定部位提取步骤，从所述化妆对象者的平面上所显示的侧面脸中提取出所述侧面脸的特定部位；化妆区域提取步骤，根据由所述侧面脸特定部位提取步骤所得到的多个侧面脸特定部位，提取出对所述化妆对象者进行化妆的化妆区域；化妆步骤，对与所述化妆区域提取步骤所提取的化妆区域相对应的所述化妆对象者的脸上的区域进行化妆。
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