[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200980103153.6 | 申请日： | 2009-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101970595A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 王晨;荆建芬;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 中国上海市浦东张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其还同时含有双胍类化合物和氮唑类化合物。抛光液中同时含有的双胍类物质和氮唑类物质具有协同作用，可显著提高多晶硅的去除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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