[发明专利]具有本体控制的双沟道晶体管及具有该晶体管的电路有效

专利信息
申请号: 200980103580.4 申请日: 2009-01-30
公开(公告)号: CN101952964A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: F·维贝尔莱特 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;靳强
地址: 英国开*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 通过提供具有本体控制的双沟道晶体管(200、400、500P、500N),使得增加功能与提升稳定度的结合可被实现。例如,用于静态随机存取内存单元(RAM cells)(560)的触发器电路(550)可由具有本体控制的双沟道晶体管(200、400、500P、500N)形成,因此,减少每单元所需求的晶体管数量,如此可导致信息密度增加。
搜索关键词: 具有 本体 控制 沟道 晶体管 电路
【主权项】:
一种装置,包含:场效晶体管(200、400、500P、500N),包含:漏极区域和源极区域(204),具有第一导电类型;本体区域(202B),至少形成于该漏极区域和该源极区域(204)之间,该本体区域(202B)具有不同于该第一导电类型的第二导电类型;栅极电极(205),形成在该本体区域(202B)的沟道区域(203)之上,该栅极电极(205)通过绝缘层(206)与该沟道区域(203)分离;掺杂区域(203B),位于该漏极区域与该源极区域(204)之间,且具有该第一导电类型;以及本体终端(208A、408A),连接至该本体区域(202B),并配置成用以接收可变控制电压。
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