[发明专利]亲水性元件无效

专利信息
申请号: 200980103936.4 申请日: 2009-01-30
公开(公告)号: CN101932447A 公开(公告)日: 2010-12-29
发明(设计)人: 田中智史;近藤義顕 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B05D5/00;C08F18/22;C08F28/02;C08F220/54;C09D5/00;C09D7/12;C09D143/02;C09D143/04;C09D183/04
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 郭佩兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 亲水性元件,其包括各种基底和形成于其表面上的表面层,其中,该层是柔性的并具有优异的防污性、对水等的快速干燥性和耐磨性。一种亲水性元件,其特征在于,其具有在基底上的外涂层和底涂层;该外涂层由(A)一种具有特定结构的亲水性聚合物和(B)一种亲水性聚合物,其包括至少一个具有特定结构的亲水性聚合物形成;该底涂层由底涂层组合物形成,该底涂层组合物包括(C)通式(III):M(OR14)4表示的醇盐(其中M表示选自Si、Ti和Zr的元素)和(D)通式(IV):Si(OR15)aR164-a表示的烷氧基硅烷(其中R14至R16每一个独立地表示氢或烃基,且a为2或3)。
搜索关键词: 亲水性 元件
【主权项】:
1.一种亲水性元件,其特征在于,在基底上具有:由亲水性组合物形成的外涂层,该亲水性组合物含有亲水性聚合物(A)和亲水性聚合物(B)中的至少一种,亲水性聚合物(A)包括以下通式(I-1)表示的结构和通式(I-2)表示的结构,亲水性聚合物(B)包括通式(II-1)表示的结构和通式(II-2)表示的结构;和由用于形成底涂层的组合物形成的底涂层,该组合物包括由通式(III)M(OR14)4表示的醇盐(C),其中M表示选自Si、Ti和Zr的元素;和通式(IV)Si(OR15)aR164-a表示的烷氧基硅烷(D),其中R14至R16每一个独立地表示氢原子或烃基,且a表示2或3:通式(I-1)                             通式(I-2)其中,在通式(I-1)和(I-2)中,R101至R108每一个独立地表示氢原子或烃基,p表示1到3的整数,L101表示单键或具有选自-CONH-、-NHCONH-、-OCONH-、-SO2NH-、和-SO3-中的一个或多个结构的多价有机连接基团,L102表示单键或多价有机连接基团,x和y每一个均表示成分的比例,且0<x<100和0<y<100,A101表示-OH、-ORa、-CORa、-CO2Re、-CON(Ra)(Rb)、-N(Ra)(Rb)、-NHCORd、-NHCO2Ra、-OCON(Ra)(Rb)、-NHCON(Ra)(Rb)、-SO3Re、-OSO3Re、-SO2Rd、-NHSO2Rd、-SO2N(Ra)(Rb)、-N(Ra)(Rb)(Rc)、-N(Ra)(Rb)(Rc)(Rg)、-PO3(Re)(Rf)、-OPO3(Re)(Rf)或者-PO3(Rd)(Re),其中,Ra、Rb和Rc每一个独立地表示氢原子或直连、支链或环烷基,Rd表示直连、支链或环烷基,Re和Rf各自独立地表示氢原子,直链、支链或环烷基,碱金属,碱土金属或鎓,和Rg表示卤素离子、无机阴离子或有机阴离子;通式(II-1)                          通式(II-2)在通式(II-1)和(II-2)中,R201至R205各自独立地表示氢原子或烃基,q表示1到3的整数,L201和L202各自独立地表示单键或多价有机连接基团,A201表示-OH、-ORa、-CORa、-CO2Re、-CON(Ra)(Rb)、-N(Ra)(Rb)、-NHCORd、-NHCO2Ra、-OCON(Ra)(Rb)、-NHCON(Ra)(Rb)、-SO3Re、-OSO3Re、-SO2Rd、-NHSO2Rd、-SO2N(Ra)(Rb)、-N(Ra)(Rb)(Rc)、-N(Ra)(Rb)(Rc)(Rg)、-PO3(Re)(Rf)、-OPO3(Re)(Rf)或者-PO3(Rd)(Re),其中,Ra、Rb和Rc各自独立地表示氢原子或直链、支链或环烷基,Rd表示直链、支链或环烷基,Re和Rf各自独立地表示氢原子,直链、支链或环烷基,碱金属,碱土金属或鎓,Rg表示卤素离子、无机阴离子或有机阴离子。
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