[发明专利]一种调节等离子体处理系统电极方位和平行度的机构

摘要

本发明公开了一种调节等离子体处理室电极方位的机构。所述等离子体处理室可用于处理至少一块基板，基板可以沿插入方向插入等离子体处理室中。该机构可以包含一块支撑板，其布置在等离子体处理室的室壁外，并相对于室壁枢接。支撑板可以有第一螺纹。该机构还可以包含具有第二螺纹的调节螺丝，第二螺纹与第一螺纹啮合。转动调节螺丝可以让该支撑板局部相对于调节螺丝产生平移。该支撑板局部的平移可以导致支撑板相对于室壁转动，从而导致电极相对于轴产生转动，所述轴与插入方向正交。

主权项

一种调节等离子体处理系统中第一电极方位的机构，该等离子体处理系统设置成处理至少一块基板，该等离子体处理系统还包括至少一个等离子体处理室，该等离子体处理室包括至少一个室壁，该第一电极位于该等离子体处理室里面，该基板设置成沿着插入方向插入该等离子体处理室中，所述机构包括：与该第一电极耦合的支撑板，该支撑板有第一螺纹，该支撑板布置在该室壁的外面，并且相对于该室壁枢接；和有第二螺纹的调节螺丝，该第二螺纹与该第一螺纹啮合，其中转动该调节螺丝，导致该支撑板局部相对于该调节螺丝产生第一平移，该支撑板局部第一平移设置成导致支撑板相对于该室壁产生第一转动，该支撑板的该第一转动设置成导致该第一电极相对于第一轴产生第一转动，该第一轴与插入方向正交。