[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法无效
| 申请号： | 200980105201.5 | 申请日： | 2009-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101952779A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·门格尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法。微光刻投射曝光设备的光学系统包括具有镜布置(200)的照明装置(10)和至少一个偏振态改变装置，该镜布置(200)具有可彼此独立调整的多个镜元件(200a、200b、200c、……)，用于改变由该镜布置(200)反射的光的角度分布，偏振态改变装置例如光弹性调制器(100)。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 光学系统 方法 | ||
【主权项】：
微光刻投射曝光装置的光学系统，包括：照明装置(10)，其包括具有多个镜元件(200a、200b、200c、……)的镜布置(200)，该多个镜元件(200a、200b、200c、……)可彼此独立调整，用于改变所述镜布置(200)反射的光的角度分布；以及至少一个偏振态改变装置(100)。
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