[发明专利]微光刻的投射曝光设备使用的分面镜有效
申请号: | 200980105364.3 | 申请日: | 2009-02-06 |
公开(公告)号: | CN101946190A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 乌多·丁格;马丁·恩德雷斯;阿明·沃伯;诺伯特·米尔伯格;弗洛里安·巴赫 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
主分类号: | G02B5/09 | 分类号: | G02B5/09;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 分面镜用作微光刻的投射曝光设备中的光束引导元件。该分面镜具有多个分立镜(21)。对于入射照明光的单独偏转,在每种情况下这些分立镜(21)被连接到驱动器,使得这些分立镜关于至少一个倾斜轴(x,y)分别地可倾斜。连接到驱动器的控制装置被配置,使得给定组的分立镜(21)能够组合成分立镜组(19),该分立镜组在每种情况下包括至少两个分立镜(21)。结果是当分立镜安装在投射曝光设备中时,分立镜增加用于设置由投射曝光设备照明物场的各种照明几何形状的变化性。用于形成分面镜的分立镜的各种实施例被描述。 | ||
搜索关键词: | 微光 投射 曝光 设备 使用 分面镜 | ||
【主权项】:
在EUV微光刻的投射曝光设备(1)中用作光学元件的分面镜(13,14;47;64;67,70),‑所述分面镜(13,14;47;64;67,70)包括分立镜(21;69),所述分立镜提供分立镜照明通道(AK),用于将照明光(10)引导到所述投射曝光设备(1)的物场(5),‑所述分立镜(21;69)具有镜面,使得所述分立镜照明通道(AK)照明所述物场(5)内比所述物场(5)小的物场部分(73;76);和‑所述分立镜(21;69)经由驱动器(24)能够倾斜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司,未经卡尔蔡司SMT股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980105364.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。