[发明专利]具有环状氨基的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物有效
| 申请号： | 200980105535.2 | 申请日： | 2009-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101946209A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 中岛诚;柴山亘;菅野裕太 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G77/26;C08G77/388;C08L83/08;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供用于形成可以用作硬掩模的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，是作为硅烷含有水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物的组合物，该硅烷全体中、具有环状氨基的硅烷以小于1摩尔％的比例存在，优选以0.01～0.95摩尔％的比例存在。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成膜的组合物。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。上述环状氨基是仲氨基或叔氨基。水解性有机硅烷是式(1)所示的化合物，R1aR2bSi(R3)4-(a+b)式(1)(式中，R1是环状氨基或含有环状氨基的有机基团)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 环状 氨基 含有 形成 抗蚀剂 下层 组合 | ||
【主权项】：
一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，是作为硅烷含有水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物的组合物，该硅烷全体中、具有环状氨基的硅烷以小于1摩尔％的比例存在。
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