[发明专利]细微结构体的制造方法无效
申请号: | 200980105796.4 | 申请日: | 2009-01-09 |
公开(公告)号: | CN101945750A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 三宅弘人;伊吉就三 | 申请(专利权)人: | 大赛璐化学工业株式会社 |
主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02;G11B5/84;G11B7/26;H01L21/027;B29L9/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种细微结构体的制造方法,该细微结构体的制造方法中对光固化性树脂组合物实施纳米压印加工来获得细微结构体,该细微结构体的制造方法包含下述工序:(1)在支持体上形成包含纳米压印用光固化性树脂组合物的覆膜,并使用纳米压模(nano stamper)通过压力为5~100MPa的压印加工将图案转印在覆膜上的工序,所述纳米压印用光固化性树脂组合物含有固化性化合物,所述固化性化合物包含阳离子聚合性化合物和/或自由基聚合性化合物;和(2)使已转印上图案的覆膜固化来获得细微结构体的工序。 | ||
搜索关键词: | 细微 结构 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种细微结构体的制造方法,该细微结构体的制造方法中对光固化性树脂组合物实施纳米压印加工来获得细微结构体,该方法包含下述工序:工序(1)在支持体上形成包含纳米压印用光固化性树脂组合物的覆膜,并使用纳米压模通过压力为5~100MPa的压印加工将图案转印至覆膜上,所述纳米压印用光固化性树脂组合物含有固化性化合物,所述固化性化合物包含阳离子聚合性化合物和/或自由基聚合性化合物;以及工序(2)使已转印有图案的覆膜固化来获得细微结构体。
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