[发明专利]使用可变屏蔽气体成分的高质量孔切割有效
| 申请号： | 200980105977.7 | 申请日： | 2009-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN101952075A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | J·W·林德赛;G·T·贝斯特 | 申请（专利权）人： | 海别得公司 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张兰英;李丹丹 |
| 地址： | 美国新罕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于等离子焊炬系统的方法和装置，该系统具有等离子焊炬末端构造，该构造包括喷嘴、电极和用于控制屏蔽气流成分的控制单元，使得当切割轮廓时屏蔽气流包括第一屏蔽气体成分，且在切割孔时屏蔽气流包括第二屏蔽气体成分。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 可变 屏蔽 气体 成分 质量 切割 | ||
【主权项】：
一种在工件上切割孔和轮廓的方法，所述方法包括：提供等离子弧焊炬，所述等离子弧焊炬具有：限定等离子腔的喷嘴和电极，在所述等离子腔内产生的等离子弧，用于为所述等离子弧焊炬提供屏蔽气流的屏蔽气体供给管线，以及用于控制包括屏蔽气体成分在内的切割参数的控制单元；使用所述等离子弧焊炬来切割所述孔和所述轮廓而不改变所述喷嘴和电极；控制所述切割参数，使得当切割所述轮廓时所述屏蔽气体包括第一屏蔽气体成分，且当切割所述孔时所述屏蔽气体包括第二屏蔽气体成分，其中所述第一屏蔽气体成分不同于所述第二屏蔽气体成分。
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