[发明专利]真空吸嘴有效
| 申请号： | 200980106447.4 | 申请日： | 2009-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN101960940A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 浜岛浩 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | H05K13/04 | 分类号： | H05K13/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 存在处于带电状态的尘埃和焊料屑附着并堆积在真空吸嘴的吸引孔的内表面上，使该吸引孔堵塞的问题。为了解决上述问题，本发明提供一种真空吸嘴，其在前端将吸附物真空吸附的吸附面由陶瓷构成，在吸附面具有吸附孔，其中，在吸引孔的内表面形成有电阻比陶瓷的主成分的电阻小的多个突起。由此，即使在吸引电子部件(15)的同时从吸引孔吸引的尘埃以及焊料屑等带有静电的情况下，通过与突起7接触而使静电放电，从而能够抑制因静电造成尘埃以及焊料屑等附着并堆积在内表面。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 | ||
【主权项】：
一种真空吸嘴，其包括在前端具有吸附面的基体以及贯通所述基体而与所述吸附面连通的吸引孔，其特征在于，所述基体的至少包括所述吸附面的前端部由陶瓷构成，在所述吸引孔的内表面形成有电阻比所述陶瓷的主成分的电阻小的多个突起。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷株式会社，未经京瓷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980106447.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
