[发明专利]非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 200980107201.9 | 申请日： | 2009-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101981224A | 公开（公告）日： | 2011-02-23 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/05;C22C1/10;C22C19/07;C22C32/00;C22C49/08;C22C49/14;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，具有非磁性材料粒子分散在包含Co-Cr合金的强磁性材料中而形成的相(A)和在所述相(A)中包含短片为30～100μm、长片为50～300μm的Co-Cr合金相的片状组织(B)，所述Co-Cr合金中Cr为5原子％以上且20原子％以下、其余为Co，并且所述非磁性材料粒子具有比以非磁性材料粒子内的任意点为中心形成的半径1μm的全部假想圆更小，或者在强磁性材料和非磁性材料的界面与该假想圆之间具有至少两个以上的接触点或交叉点的形状和尺寸。得到提高靶的PTF(漏磁通)从而可以通过磁控管DC溅射装置高速成膜，可以减少溅射时产生的粉粒(粉尘)或结核，品质的波动少，并可以提高批量生产率，并且晶粒微细的高密度非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 粒子 分散 溅射 | ||
【主权项】：
一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，其为包含氧化物的非磁性材料粒子分散在包含Co‑Cr合金的强磁性材料中的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，所述Co‑Cr合金中Cr为5原子％以上且20原子％以下、其余为Co，其特征在于，具有所述非磁性材料粒子分散在强磁性体材料中而形成的相(A)和在所述相(A)中包含短片为30～100μm、长片为50～300μm的Co‑Cr合金相的片状组织(B)，并且所述非磁性材料粒子具有比以非磁性材料粒子内的任意点为中心形成的半径1μm的全部假想圆更小，或者在强磁性材料和非磁性材料的界面与该假想圆之间具有至少两个以上的接触点或交叉点的形状和尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX日矿日石金属株式会社，未经JX日矿日石金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980107201.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
