[发明专利]可用于平版印刷版的负性工作热敏感组合物用的增感剂/引发剂组合物无效
| 申请号： | 200980107263.X | 申请日： | 2009-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN101959686A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | C·辛普森;H·鲍曼;B·施特勒默尔 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10;B41M5/36;C08F2/46;C09B69/06;G03F7/029;B41M5/46 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 范赤;林毅斌 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 辐射敏感组合物和负性工作可成像元件，包括具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的阳离子IR吸收剂和具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的引发剂。这些组分的使用提供高成像敏感性、优良贮藏寿命和长印刷周期。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平版印刷 工作 敏感 组合 增感剂 引发 | ||
【主权项】：
1.一种辐射敏感组合物，包括：(a)能够吸收700至1200nm辐射的增感剂染料，(b)与曝光的增感剂互相作用产生自由基的引发剂，(c)可自由基聚合组分，和(d)任选的聚合物基料，其中增感剂染料为具有四芳基硼酸盐阴离子的阳离子染料，引发剂为选自四芳基硼酸二芳基碘![]()
四芳基硼酸三芳基硫![]()
四芳基硼酸重氮、四芳基硼酸磷![]()
和四芳基硼酸N-杂环![]()
的![]()
化合物，其中N用-OR取代，其中R为任选取代的烃基。
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