[发明专利]基于废气阻抗的端点检测有效
申请号: | 200980107986.X | 申请日: | 2009-03-13 |
公开(公告)号: | CN101971300A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | T·R·特纳;E·鲁;J·坎农 | 申请(专利权)人: | 福斯瑞科技公司 |
主分类号: | H01L21/3065 | 分类号: | H01L21/3065 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谭志强 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种测量与排气管相关的废气的阻抗的系统。该系统包括一远程等离子体电源、一工艺腔、一排气管、一电极组件、一射频驱动电源和一检测器。远程电极电源连接工艺腔,用于向工艺腔提供工艺腔清洁气体。排气管也与工艺腔相连,工艺腔清洁废气通过排气管从工艺腔中排出。电极组件位于排气管内,暴露在从工艺腔排出的废气中。电极组件连接射频驱动电源,接收来自射频驱动电源的射频信号。施加于电极组件的射频信号引发电极组件及排气管间的等离子体放电。与电极组件相连的检测器检测工艺腔的工艺腔清洁过程的端点。端点可根据与电极组件和排气管之间等离子体放电相关的阻抗变化而检测到。 | ||
搜索关键词: | 基于 废气 阻抗 端点 检测 | ||
【主权项】:
一种用于测量废气阻抗的系统,其特征在于包括:一反应物输送系统;一与反应物输送系统连接的工艺腔,反应物输送系统用于提供反应物,反应物用于使工艺腔内的薄膜挥发;一排气管,挥发的薄膜废气通过排气管从工艺腔中排出;一电极组件,位于排气管内,电极暴露于从工艺腔排出的挥发的薄膜废气中;一与电极组件相连接的电离能输送网路,电离能输送网路用于将电离能信号施加于电极组件,其中施加于电极组件的电离能信号引发电极组件与排气管间的等离子体放电;以及一与电极组件相连接的检测器,检测器用于检测正在工艺腔内进行的一工艺过程的端点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福斯瑞科技公司,未经福斯瑞科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980107986.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造