[发明专利]用于校准磁感应断层成像系统的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200980108445.9 申请日: 2009-03-03
公开(公告)号: CN101983341A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 阎铭;谌达宇 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01V3/10 分类号: G01V3/10;G01V13/00;A61B5/053
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 龚海军;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于校准成像系统的偏移的方法和设备。本发明的核心思想在于:将参考物体置于成像系统的测量室中;在不同时间点测量与参考物体关联的信号;根据参数的变化计算评价函数,所述参数表示参考物体的电磁特性;导出使得评价函数的值最小的一组最优偏移数据,以便在随后的图像重构中补偿系统的偏移。在一个实施例中,本发明使用了包括不传导外壳和腔体的参考物体,传导流体可以填充到该参考物体中,也可从该参考物体中清空,这样,可以减少监测期间由参考物体引起的成像干扰。
搜索关键词: 用于 校准 感应 断层 成像 系统 方法 设备
【主权项】:
一种校准成像系统的方法,该方法包括:‑第一测量步骤(204),其测量与置于该成像系统的测量室(100)中的参考物体(102)关联的磁感应信号,以便获得第一组测量数据;‑步骤(206),其根据所述第一组测量数据和一组偏移数据计算第一组参数,所述第一组参数表示所述参考物体(102)的电磁特性,所述偏移数据组是所述系统的偏移的初始估计;‑第二测量步骤(210),其测量与置于所述测量室(100)中的所述参考物体(102)和感兴趣物体(101)关联的磁感应信号,以便获得第二组测量数据;‑步骤(212),其根据所述第二组测量数据和所述偏移数据组计算第二组参数,所述第二组参数表示所述参考物体(102)和感兴趣物体(101)的电磁特性;‑步骤(216),其根据测量室中所述参考物体(102)的形状和/或位置从所述第二组参数导出第三组参数,所述第三组参数表示所述参考物体的电磁特性;和‑步骤(218),其从所述第一和第三组参数导出一组最优偏移数据,该最优偏移数据组是所述系统的偏移的估计;和‑步骤(220),其用所述最优偏移数据组更新所述偏移数据组。
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