[发明专利]制备沉淀二氧化硅的新方法，具有特殊的形态、粒度和孔隙率的沉淀二氧化硅及其用途，尤其用于增强聚合物

摘要

本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅，该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成，这些二氧化硅具有CTAB比表面积(SCTAB)为60‑400m2/g，在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为d50(nm)＞(6214/SCTAB(m2/g))+23，孔体积分布为V(d5‑d50)/V(d5‑d100)＞0.906‑(0.0013xSCTAB(m2/g))，以及孔尺寸分布为Mode(nm)＞(4166/SCTAB(m2/g))‑9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。

主权项

如下类型的沉淀二氧化硅的制备方法，这种类型的制备方法包括硅酸盐与酸化剂的反应，导致获得二氧化硅悬浮液，然后进行这种悬浮液的分离和干燥，其特征在于硅酸盐与酸化剂的反应按照以下的方式进行：(i)将具有2.5‑5.3的pH值的沉淀二氧化硅水性悬浮液与酸化剂和硅酸盐以使得反应介质的pH值保持在2.5‑5.3的方式接触，(ii)将碱性剂添加到所获得的反应介质中，以将反应介质的pH值提高直至4.7‑6.3的值，在下述这种情况下，这个步骤(ii)是任选的，这种情况是：在步骤(i)中，pH值为5.0‑5.3的沉淀二氧化硅水性悬浮液与酸化剂和硅酸盐以使得反应介质的pH值保持在5.0‑5.3的方式接触，其中在步骤(i)中使用的水性悬浮液以如下方式获得：(1)形成包含硅酸盐和电解质的初始底料，在所述初始底料中以SiO2表示的硅酸盐浓度小于100g/L，(2)将酸化剂添加到所述底料中，直至获得至少7的反应介质的pH值，(3)将酸化剂和硅酸盐同时添加到反应介质中，(4)停止硅酸盐的添加，同时继续将酸化剂添加到反应介质中，直至获得2.5‑5.3的反应介质的pH值。