[发明专利]新型具有含氟碳负离子结构的盐及其衍生物、光产酸剂以及使用其的抗蚀材料和图案形成方法

摘要

本发明提供一种具有下述通式(1)所示的含氟碳负离子结构的酸或具有含氟碳负离子结构的盐。其中，本发明可提供光产酸剂以及含有这样的光产酸剂的抗蚀材料，通过使用产生该酸的化学增幅抗蚀材料用的光产酸剂，对ArF准分子激光等为高感光度、所产生的酸(光产酸)的酸性度充分高、且具有对抗蚀溶剂高的溶解性和对树脂优异的相容性。

主权项

1.一种具有下述通式(1)所示的含氟碳负离子结构的酸或具有含氟碳负离子结构的盐，所述通式(1)中，n表示1～3的整数；R’表示氢原子或碳数1～3的取代或无取代的烷基；R表示碳数1～10的直链状或支链状的烷基、碳数1～10的直链状或支链状的至少末端部具有聚合性双键的链烯基、碳数3～20的脂环式有机基、由碳数3～20的脂环式有机基与直链状的亚烷基形成的有机基、碳数3～30的单环式或多环式内酯、或者碳数6～20的芳基，其中，该烷基、链烯基、脂环式有机基、由脂环式有机基与直链状的亚烷基形成的有机基、单环式或多环式内酯和芳基上的氢原子的一部分分或者全部任选被氟、羟基、羟基羰基、碳数1～6的直链状、支链状或环状的烷氧基取代；此外，构成该烷基、链烯基、脂环式有机基或由脂环式有机基与直链状的亚烷基形成的有机基的同一碳上的2个氢原子任选被1个氧原子取代而成为酮基；进而该烷基上的氢原子之一任选被2-丙烯酰氧基或2-甲基丙烯酰氧基取代；A表示下述基团中的任一种基团：R_F和R_F’各自独立地表示碳数1～4的全氟烷基。