[发明专利]在碳纳米管上沉积金属或准金属的方法和系统无效
申请号: | 200980108790.2 | 申请日: | 2009-02-20 |
公开(公告)号: | CN101970715A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 瑟奇·博德雷;丹尼尔·科查德;埃里克·杜蒂尔;帕特里斯·盖拉德;达米安·沃伊里 | 申请(专利权)人: | 阿克马法国公司 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/24;C23C16/32;C23C16/44 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及用于在碳纳米管(CNT)上沉积金属或准金属的方法和系统。本发明的方法包括将CNT粉末在反应器中均化,并且由包含所述金属或准金属的烷基化物前体使用在所述反应器内实施的化学气相沉积技术在均化的CNT粉末上沉积所述金属或准金属。所述方法可用于通过在CNT上沉积Si而在所述CNT的表面制造纳米结构的SiC。 | ||
搜索关键词: | 纳米 沉积 金属 方法 系统 | ||
【主权项】:
向碳纳米管(CNT)上沉积金属或准金属的方法,其特征在于其包括:‑将CNT粉末在反应器中均化,‑以由选自锡、铝或铜的所述金属或者选自硅、硼或锗的所述准金属的烷基化物形成的前体为原料,通过在所述反应器内进行的气相沉积技术,在该均匀的CNT粉末上沉积该金属或准金属;所述气相沉积在反应器中在大气压和低于1000℃的温度下进行,所述前体以气体形式注入到所述反应器中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的