[发明专利]等离子生成装置及等离子处理装置有效

专利信息
申请号: 200980109110.9 申请日: 2009-03-25
公开(公告)号: CN101970710A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 椎名祐一 申请(专利权)人: 日本磁性技术株式会社
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;H05H1/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 史雁鸣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提供一种能够更有效地除去混入到等离子中的微滴,能够谋求由高纯度等离子进行的成膜等的表面处理精度的提高的等离子生成装置及使用了它的等离子处理装置。在本发明中,设置在等离子行进路上的微滴除去部,由与等离子发生部(A)连接的等离子直行管(P0);与等离子直行管(P0)呈弯曲状地连接的第一等离子行进管(P1);与第一等离子行进管(P1)的终端相对于其管轴以规定弯曲角倾斜配置地连接的第二等离子行进管(P2);与第二等离子行进管(P2)的终端呈弯曲状地连接并从等离子出口排出等离子的第三等离子行进管(P3)构成。
搜索关键词: 等离子 生成 装置 处理
【主权项】:
一种等离子生成装置,其特征在于,具有在真空环境下进行真空电弧放电、从目标表面产生等离子的等离子发生部,和使由上述等离子发生部产生的等离子行进的等离子行进路,在上述等离子行进路上配置将产生等离子时从阴极作为副产品产生的阴极材料粒子(下面称为“微滴”)除去的微滴除去部,此微滴除去部,由与上述等离子发生部连接的等离子直行管;与上述等离子直行管呈弯曲状地连接的第一等离子行进管;与上述第一等离子行进管的终端相对于其管轴以规定弯曲角倾斜配置地连接的第二等离子行进管;与上述第二等离子行进管的终端呈弯曲状地连接并从等离子出口排出等离子的第三等离子行进管构成,上述等离子从上述目标表面到达被处理物的合计长度L被设定成满足900mm≤L≤1350mm。
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