[发明专利]微细结构体检查方法、微细结构体检查装置和微细结构体检查程序有效

专利信息
申请号: 200980109275.6 申请日: 2009-03-19
公开(公告)号: CN101978241A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 米仓勋;波木井秀充 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G01B15/00 分类号: G01B15/00;G01N23/225;H01J37/22;H01L21/66
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 郭晓东;马少东
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。
搜索关键词: 微细 结构 体检 方法 装置 程序
【主权项】:
一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。
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