[发明专利]沉积设备和电子装置制造方法

摘要

一种沉积设备包括：挡板收纳单元，其经由开口连接到处理室，并且将收回状态中的挡板收纳到排气室中；和遮蔽构件，其围绕挡板收纳单元的开口形成，并且遮盖排气室的排气口。遮蔽构件在挡板收纳单元的开口与沉积单元之间的预定高度的位置处具有第一排气路径，该第一排气路径与排气室的排气口连通。

主权项

一种沉积设备，包括：处理室，其构造成执行沉积处理；排气室，其经由排气口连接到所述处理室；排气装置，其连接到所述排气室，并且经由所述排气室抽空所述处理室；衬底保持器，其布置在所述处理室中，并且支撑衬底；沉积单元，其布置在所述处理室中，并且在衬底上沉积膜；挡板，其构造成运动到遮蔽状态或者收回状态，在所述遮蔽状态中所述挡板将所述衬底保持器和所述沉积单元彼此遮蔽，在所述收回状态中所述挡板从所述衬底保持器和所述沉积单元之间收回；驱动单元，其构造成驱动所述挡板以将所述挡板设定在所述遮蔽状态或者所述收回状态中；挡板收纳单元，其经由开口连接到所述处理室，并且将处于所述收回状态中的所述挡板收纳到所述排气室中；以及遮蔽构件，其围绕所述挡板收纳单元的开口形成，并且构造成遮盖所述排气室的排气口，其中，所述遮蔽构件在所述挡板收纳单元的开口与所述沉积单元之间的预定高度的位置处具有第一排气路径，所述第一排气路径与所述排气室的排气口连通。