[发明专利]紫外线吸收剂组合物无效

专利信息
申请号: 200980110937.1 申请日: 2009-03-30
公开(公告)号: CN101981153A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 古川和史;木村桂三;竹岛洋一郎;尼崎一路 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C09K3/00 分类号: C09K3/00;C07D409/14;C07D413/14;C08K5/45;C08L101/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 苗征;于辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本申请公开了一种紫外线吸收剂组合物,其包含:至少一种紫外线吸收剂(A),其是由下式(1)表示的化合物;和至少一种紫外线吸收剂(B),其是这样的化合物,其在320nm的吸光度是在270nm至400nm范围内的最大吸收波长处的吸光度的20%或更大,并且其最大吸收波长为380nm或更小:其中Het1表示二价的五元或六元芳香族杂环残基;所述芳香族杂环残基可以带有取代基;Xa、Xb、Xc和Xd各自独立地表示杂原子;Xa至Xd可以带有取代基;Ya、Yb、Yc、Yd、Ye和Yf各自独立地表示杂原子或碳原子;Ya至Yf可以带有取代基;并且连接至Het1的环可以在任何位置上具有双键。
搜索关键词: 紫外线吸收剂 组合
【主权项】:
1.紫外线吸收剂组合物,其包含:至少一种紫外线吸收剂(A),其是由下式(1)表示的化合物;和至少一种紫外线吸收剂(B),其是这样的化合物,其在320nm的吸光度是在270nm至400nm范围内的最大吸收波长处的吸光度的20%或更大,并且其最大吸收波长为380nm或更小:式(1)其中Het1表示二价的五元或六元芳香族杂环残基;所述芳香族杂环残基可以带有取代基;Xa、Xb、Xc和Xd各自独立地表示杂原子;Xa至Xd可以带有取代基;Ya、Yb、Yc、Yd、Ye和Yf各自独立地表示杂原子或碳原子;Ya至Yf可以带有取代基;并且连接至Het1的环可以在任何位置上具有双键。
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