[发明专利]以咪达那新为有效成分的口腔内速崩片的制造方法有效

专利信息
申请号: 200980111934.X 申请日: 2009-01-30
公开(公告)号: CN101983055A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 石崎敏广;青木芳延 申请(专利权)人: 杏林制药株式会社
主分类号: A61K31/4164 分类号: A61K31/4164;A61K9/22;A61K47/32;A61K47/36;A61K47/38;A61P13/10;A61P43/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 郭煜;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供光稳定性优异的、含有咪达那新的口腔内速崩片。具有以下工序:(A)通过将咪达那新与淀粉一起进行造粒,制造咪达那新的浓度为0.001~3质量%、且淀粉的浓度为40~99.999质量%的造粒物的工序;(B)将工序(A)的造粒物用非纤维素系涂剂被覆的工序;(C)将工序(B)中得到的被覆造粒物与赋形剂和崩解剂混合,进行压缩成形的工序。
搜索关键词: 有效成分 口腔 内速崩片 制造 方法
【主权项】:
口腔内速崩片的制造方法,其特征在于,具有以下工序:(A)通过将咪达那新与淀粉一起进行造粒,制造咪达那新的浓度为0.001~3质量%、且淀粉的浓度为40~99.999质量%的造粒物的工序;(B)将工序(A)的造粒物用非纤维素系涂剂被覆的工序;(C)将工序(B)的造粒物与赋形剂和崩解剂混合,进行压缩成形的工序。
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