[发明专利]纳米线围栅装置无效

专利信息
申请号: 200980114203.0 申请日: 2009-04-15
公开(公告)号: CN102007067A 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: J·奥尔森;L·萨穆尔森;E·林德 申请(专利权)人: 昆南诺股份有限公司
主分类号: B82B1/00 分类号: B82B1/00;H01L29/06;H01L29/12;H01L29/775;H01L29/778
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 汤春龙;王洪斌
地址: 瑞典*** 国省代码: 瑞典;SE
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摘要: 发明提供一种包括至少第一半导体纳米线(105)的半导体装置,其中具有第一导电类型的第一纵长区(121)、第二导电类型的第二纵长区(122)以及设置在纳米线(105)的第一区(121)以便在将电压施加到第一围栅电极(111)时改变第一纵长区(121)中的载荷子浓度的至少第一围栅电极(111)。优选地,第二围栅电极(112)设置在第二纵长区(122)。由此,可实现可调人工结(114),而无需纳米线(105)的实质掺杂。
搜索关键词: 纳米 线围栅 装置
【主权项】:
一种包括至少第一半导体纳米线(105)的半导体装置,其特征在于,所述第一纳米线(105)包括第一导电类型的第一纵长区(121)、第二导电类型的第二纵长区(122)以及设置在所述纳米线(105)的所述第一区(121)以便在将电压施加到第一围栅电极(111)时改变与所述第一纵长区(121)关联的所述纳米线(105)的至少第一部分(101)中载荷子浓度的所述至少第一围栅电极(111)。
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