[发明专利]用于微型光刻的光敏性硬掩模有效
| 申请号： | 200980114886.X | 申请日： | 2009-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN102016724A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 徐昊;R-M·L·梅尔卡多;D·J·格雷罗 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 沙永生;周承泽 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新颖的硬掩模组合物，该组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的非聚合物型的含金属的纳米颗粒，还提供了将这些组合物在微电子结构中用作硬掩模层的方法。所述组合物是光敏性的，能够一经辐射曝光就变得可溶于显影剂。本发明的硬掩模层与光刻胶层同时形成图案，为随后的图案转移提供抗等离子体蚀刻性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微型 光刻 光敏 性硬掩模 | ||
【主权项】：
一种形成微电子结构的方法，该方法包括：(a)提供具有表面的基片；(b)任选地在所述表面上形成一层或多层中间层；(c)如果存在所述中间层的话，施加与所述中间层相邻的硬掩模组合物，或者如果不存在中间层的话，施加与所述基片表面相邻的硬掩模组合物，所述硬掩模组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的非聚合物型纳米颗粒；(d)对所述硬掩模组合物进行烘烤，以制得硬掩模层；(e)对所述硬掩模层进行辐射曝光，形成所述硬掩模的曝光部分；以及(f)使得所述硬掩模层与显影剂接触，以除去所述硬掩模层的所述曝光部分。
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