[发明专利]水反应性Al膜的制造方法及成膜室用构成部件有效
| 申请号： | 200980115409.5 | 申请日： | 2009-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN102016100A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 门胁丰;斋藤朋子;林敬荣;虫明克彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C4/06 | 分类号： | C23C4/06;C22C21/00;C23C14/00;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种水反应性Al膜的制造方法，其将在4NAl或5NAl中以Al基准计添加了2～5wt％的In的材料熔融，以使得组成变得均匀，将该熔融材料通过火焰喷镀法对于基材表面进行喷镀而使其急冷凝固，由此制造在Al晶粒中In均匀地分散而成的水反应性Al膜。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 al 制造 方法 成膜室用 构成 部件 | ||
【主权项】：
一种水反应性Al膜的制造方法，其特征在于，将在4NAl或5NAl中以Al基准计添加了2～5wt％的In的材料熔融，以使得组成变得均匀，将该熔融材料通过火焰喷镀法对于基材表面进行喷镀而使其急冷凝固，由此形成在Al晶粒中In均匀地分散而成的Al膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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