[发明专利]抛光垫片组合物与制造和使用方法有效
申请号: | 200980115576.X | 申请日: | 2009-04-28 |
公开(公告)号: | CN102083586A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 拉杰夫·巴贾 | 申请(专利权)人: | 塞米奎斯特股份有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在化学机械平坦化(CMP)中使用的抛光垫片或者此类垫片的抛光组件/表面是由例如聚氨酯和聚烯烃的不可互溶聚合物的组合制成。基于界面相互作用、熔融指数和在聚合物相-基体相与分散相之间的熔融指数比来选择聚合物。通过选择聚合物体系使得所述两种聚合物彼此不可互溶并且优选形成单独的畴;当修整或抛光处理暴露所述分散相时,可将其移除。个别聚合物的熔融指数和所述熔融指数的比率决定进入所述基体的较小相的可分散性,从而决定相尺寸。 | ||
搜索关键词: | 抛光 垫片 组合 制造 使用方法 | ||
【主权项】:
一种在化学机械平坦化(CMP)中使用的抛光垫片,包含:第一聚合物,其中所述第一聚合物是本体相,和第二聚合物,其中所述第二聚合物是分散相,其在所述第一聚合物内不可互溶并且在抛光期间可从所述抛光垫片上释放,从而导致在所述抛光垫片的暴露表面上形成微孔性区域。
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