[发明专利]用于互相关毛刺减轻的装置和方法有效

专利信息
申请号: 200980116596.9 申请日: 2009-05-22
公开(公告)号: CN102016621A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: R·阿迈德;J·吴;E·M·西米克;D·G·法默 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: G01S1/00 分类号: G01S1/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈炜;袁逸
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于互相关毛刺减轻的装置和方法,包括:从多个峰值测量中选取具有第一载波噪声密度估计和第一多普勒偏移测量的第一峰值测量以及具有第二载波噪声密度估计和第二多普勒偏移测量的第二峰值测量以形成对;基于第一载波噪声密度估计和第二载波噪声密度估计来计算载波噪声密度差;基于第一多普勒偏移测量和第二多普勒偏移测量来计算多普勒差;将载波噪声密度差与载波噪声密度阈值作对比;以及将多普勒差与至少一个多普勒阈值作对比。
搜索关键词: 用于 互相 毛刺 减轻 装置 方法
【主权项】:
一种用于互相关毛刺减轻的方法,包括:从多个峰值测量中选取具有第一载波噪声密度估计和第一多普勒偏移测量的第一峰值测量以及具有第二载波噪声密度估计和第二多普勒偏移测量的第二峰值测量以形成对;基于所述第一载波噪声密度估计和所述第二载波噪声密度估计来计算载波噪声密度差;基于所述第一多普勒偏移测量和所述第二多普勒偏移测量来计算多普勒差;将所述载波噪声密度差与载波噪声密度阈值作对比;以及将所述多普勒差与至少一个多普勒阈值作对比。
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