[发明专利]曝光设备、曝光方法以及器件制造方法

摘要

在液浸曝光方法的曝光设备中，通过在使用投影光学系统(PL)形成的间隙中供应的液体来在晶片的上表面上形成液浸区域(ALq)，并且，在保持住所述晶片的移动台(WTB)上设置多个编码器头(60A至60D)。在所述多个编码器头中，控制器使用位于所述液浸区域之外的编码器头(60A、60B、60D)来测量所述移动台在XY平面内的位置信息。这使得能够对所述移动台的位置信息进行高精度和稳定的测量。

主权项

一种曝光设备，该曝光设备包括：可移动体，其保持住安装的物体并且基本上沿预定平面移动；液体供应装置，其在所述物体和安装该物体的所述可移动体中的至少一方的表面上供应液体；图案生成装置，其包括光学系统，该图案生成装置使液体供应到与所述物体和所述可移动体中的至少一方的表面形成的空间中，该图案生成装置经由该光学系统和该液体向该物体上照射能量束，并且在该物体上形成图案；以及测量系统，其具有设置在所述可移动体的表面上的多个编码器头，并且，基于该多个编码器头中的、位于由所述液体形成的液浸区域之外的编码器头的测量值，来测量所述可移动体的位置信息。