[发明专利]流体液滴喷射装置有效
申请号: | 200980117680.2 | 申请日: | 2009-05-21 |
公开(公告)号: | CN102026813A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 保罗·A·侯森汤恩;马茨·奥托松;京相忠;永岛完司 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B41J2/045 | 分类号: | B41J2/045 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种用于喷射流体液滴的系统。所述系统包括:基板,所述基板具有包括流体抽吸室的流路体;以使流体流动的方式连接到流体抽吸室的下降装置;以及以使流体流动的方式连接到所述下降装置的喷嘴。喷嘴被布置成用于通过形成于基板外表面中的出口喷射流体液滴。流路体还包括以使流体流动的方式连接到下降装置的再循环通道。所述用于喷射流体液滴的系统还包括以使流体流动的方式连接到流体抽吸室的流体供应容器、以使流体流动的方式连接到再循环通道的流体返回容器以及以使流体流动的方式连接流体返回容器和流体供应容器的泵。在一些实施方式中,通过流路体的流体流具有足以迫使气泡或污染物通过流路体的流量。 | ||
搜索关键词: | 流体 喷射 装置 | ||
【主权项】:
一种用于喷射流体液滴的系统,包括:基板,所述基板包括流路体,所述流路体具有形成于所述流路体中的流路,所述流路包括流体抽吸室、以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室的下降装置、以使流体流动的方式连接到所述下降装置的喷嘴、以及以使流体流动的方式连接到所述下降装置的再循环通道,所述喷嘴被布置成通过形成于喷嘴层外表面中的出口喷射流体液滴,所述再循环通道比所述抽吸室更靠近所述喷嘴;流体供应容器,所述流体供应容器以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室;流体返回容器,所述流体返回容器以使流体流动的方式连接到所述再循环通道;以及泵,所述泵被构造成以流体流动的方式连接到所述流体返回容器和所述流体供应容器,从而形成一个流路,所述流路从所述流体供应容器至所述基板并穿过所述基板、从所述基板至所述流体返回容器并从所述流体返回容器至所述流体供应容器。
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