[发明专利]液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法无效
| 申请号： | 200980117928.5 | 申请日： | 2009-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102037030A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 松村信司;征矢野晃雅;浅野裕介;成冈岳彦;榊原宏和;志水诚;西村幸生 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/28 | 分类号： | C08F20/28;C07C69/96;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 左嘉勋;顾晋伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 放射线 敏感性 树脂 组合 聚合物 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，是含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂的放射线敏感性树脂组合物，所述(A)树脂成分在将该(A)树脂成分整体设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。
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