[发明专利]微波辅助旋转物理气相沉积有效
| 申请号： | 200980118343.5 | 申请日： | 2009-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN102144043A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | M·W·斯托威尔;R·纽科姆 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明使用同轴微波天线，以增强PVD或IPVD中的离子化。同轴微波天线均质增加邻近遭受电源的溅射阴极或靶材的等离子密度。同轴微波源以横向电磁(TEM)模式产生电磁波。本发明亦使用近接溅射阴极或靶材的磁控管，以进一步增强溅射。此外，为了高度利用昂贵的靶材材料，靶材可旋转以改善利用效率。靶材包含介电材料、金属或半导体。靶材亦具有一横剖面，其实质上相对于一靶材环绕其旋转的中心轴对称。靶材可具有实质上圆形或环形的横剖面。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 辅助 旋转 物理 沉积 | ||
【主权项】：
一种用于微波辅助旋转溅射沉积的系统，该系统包含：处理腔室；旋转靶材，其配置在该处理腔室内侧；电源，其与该旋转靶材电通讯，并适于施加一电压至该旋转靶材；同轴微波天线，其位于该旋转靶材外侧，以用于产生微波；气体系统，其配置用于供应气体至该处理腔室中；及基材支撑构件，其配置在该处理腔室中，以用于固持该基材。
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