[发明专利]螺酮缩醇衍生物的结晶及其制备方法有效
申请号: | 200980119081.4 | 申请日: | 2009-06-19 |
公开(公告)号: | CN102046645A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 村形政利;池田拓真;木村伸彰;川濑朗;永濑正弘;山本启介;高田则幸;古崎慎一;鹰野宏治 | 申请(专利权)人: | 中外制药株式会社 |
主分类号: | C07H19/01 | 分类号: | C07H19/01;A61K31/7048;A61P3/10;C07H7/04;C07H23/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 吴宗颐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种经由式(VI)的化合物制备螺酮缩醇衍生物的方法,其中,所述式(VI)的化合物可采用一锅法反应从二卤代苄醇衍生物来制备。在式(VI)中,可变基团和变数,与说明书中的定义相同。 |
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搜索关键词: | 螺酮缩醇 衍生物 结晶 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.式(I)化合物的制备方法,[化1]
式中,n为选自0~3的整数;m为选自0~5的整数;R1和R2各自独立地选自可被1个以上Ra取代的C1-10烷基、可被1个以上Ra取代的C3-10环烷基、可被1个以上Ra取代的C2-10烯基、可被1个以上Ra取代的C3-10环烯基、可被1个以上Ra取代的C2-10炔基、可被1个以上Ra取代的芳基、可被1个以上Ra取代的饱和、部分不饱和、或者不饱和的杂环基、氰基、卤原子、硝基、巯基、-OR3、-NR4R5、-S(O)pR6、-S(O)qNR7R8、-C(=O)R35、-CR36=NOR37、-C(=O)OR9、-C(=O)NR10R11、以及-SiR12R13R14;当n为2以上时,R1可以各自相同或不同;当m为2以上时,R2可以各自相同或不同;或者,相邻碳原子上存在的2个R1与它们所连接的碳原子一起形成与苯环稠合的碳环或者杂环;相邻碳原子上存在的2个R2与它们所连接的碳原子一起形成与苯环稠合的碳环或者杂环;p为选自0~2的整数;q为选自1和2的整数;R3为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、C2-10炔基、芳基、杂芳基、-SiR12R13R14、或者-C(=O)R15;R4和R5各自独立地选自氢原子、羟基、C1-10烷基、C3-10环烷基、C1-10烷氧基、芳基、杂芳基、-SiR12R13R14以及-C(=O)R15;R6为C1-10烷基、C3-10环烷基、芳基、或者杂芳基,其中,当p为0时,R6也可以为-SiR12R13R14、或者-C(=O)R15;R7、R8、R10和R11各自独立地选自氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、芳基、杂芳基、-SiR12R13R14以及-C(=O)R15;R9为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、芳基、杂芳基、或者-SiR12R13R14;Ra各自独立地选自C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、C2-10炔基、芳基、杂芳基、羟基、卤原子、-NR21R22、-OR38、-SR26、-S(O)2R27、-SiR23R24R25、羧基、-C(O)NR28R29、-C(=O)R30、-CR31=NOR32、氰基以及-S(O)rNR33R34;r为选自1和2的整数;R12、R13、R14、R23、R24和R25各自独立地选自C1-10烷基、以及芳基;R15和R30各自独立地选自氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、C1-10烷氧基、C1-10烷基氨基、二(C1-10烷基)氨基、C1-10烷硫基、芳基、以及杂芳基;R21、R22、R28、R29、R33和R34各自独立地选自氢原子、羟基、C1-10烷基、C3-10环烷基、C1-10烷氧基、芳基、杂芳基、-SiR23R24R25、以及-C(=O)R30;R26为氢原子、C1-10烷基、C1-10烷氧基、C3-10环烷氧基、芳氧基、C3-10环烷基、芳基、杂芳基、-C(=O)R30、或者-SiR23R24R25;R27为羟基、C1-10烷基、C3-10环烷基、芳基、杂芳基、-SiR23R24R25、或者-C(=O)R30;R31为氢原子、C1-10烷基、或者C3-10环烷基;R32为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、芳基、杂芳基、-SiR23R24R25、或者-C(=O)R30;R35为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、C2-10炔基、C1-10烷硫基、芳基、或者杂芳基;R36为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、或者C2-10炔基;R37为氢原子、C1-10烷基、C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、芳基、杂芳基、-SiR12R13R14、或者-C(=O)R15;R38为C1-10烷基、C3-10环烷基、C2-10烯基、C3-10环烯基、C2-10炔基、C1-10烷硫基、芳基、杂芳基、-SiR23R24R25、或者-C(=O)R30];该方法包括工序a)和工序b),工序a)为将式(II)的化合物用有机金属试剂进行处理,然后,使其与式(III)的化合物反应,获得式(IVa)化合物的工序:[化2]
式中,X1和X2各自独立地选自溴原子和碘原子;P1为金属离子、氢原子或者羟基的保护基;R41是如上述对R1所定义的基团,其中该基团也可以具有1个以上的保护基;n的定义如上所述[化3]
式中,P2、P3、P4和P5各自独立地选自羟基的保护基;或者,也可以是P2和P3、P3和P4、以及P4和P5一起可以各自独立地是分别保护2个羟基并形成环的2价基团[化4]
式中,R41、n、X2、P1、P2、P3、P4和P5的定义如上所述;X为金属离子、或者氢原子;工序b)为将式(IVb)的化合物用有机金属试剂进行处理,然后,使其与式(V)的化合物进行反应的工序:[化5]
式中,R41、n、X2、P1、P2、P3、P4和P5的定义如上所述;P6为金属离子、氢原子或者羟基的保护基[化6]
式中,R42是如上述对R2所定义的基团,其中该基团也可以具有1个以上的保护基;m的定义如上所述;进而,在上述工序中、和/或在其前后的任意阶段中,也可以包括引入保护基的工序、和/或除去保护基的工序。
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